新聞資訊
聯(lián)系我們
聯(lián)系人：譚經(jīng)理
手 機(jī)：13901543070
傳 真：0512-62822758
郵 箱：GLD_coating11@163.com
地 址：蘇州自貿(mào)區(qū)工業(yè)園區(qū)淞北路45號(hào)4幢103室
PVD鍍膜的具體原理是什么？
時(shí)間：2019-02-18 08:40
閱讀：1419
來(lái)源：互聯(lián)網(wǎng)
物理氣相沉積是一種物理氣相反應(yīng)生長(zhǎng)法，沉積過(guò)程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過(guò)“蒸發(fā)或?yàn)R射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。